铁的氧化物反应生成尖晶石时的膨胀而引起的松散效应，电熔半再结合镁铬砖销售也可采用合成的共同烧结料制成镁铬砖。此外，还有不烧镁铬砖，例如，用无机镁盐溶液结合的不烧镁铬砖。不烧镁铬砖生产工艺简单，成本低，热稳定性也好，但高温强度远不及烧成砖。50年代末，发展出一种所谓"直接结合"镁铬砖。这种砖的特点是原料纯,烧成温度高,方镁石、尖晶石等高温相之间直接结合，硅酸盐等低熔相为孤岛状分布,因此,显著地提高了砖的高温强度和抗渣性。用铬矿-镁砂共磨压坯煅烧后制作的细粉，电熔半再结合镁铬砖与镁砂粗颗粒配合制砖的方法,是消除松散效应的有效措施。用这种方法制成的镁铬砖，同普通镁铬砖相比，砖的气孔率低，耐压强度、荷重软化温度和抗折强度均较高。用铬矿-菱镁矿粉压坯,经高温煅烧的合成镁铬砂制成的镁铬砖，抗渣性和高温强度均比其他镁铬砖好。

直接结合镁铬砖是在普通镁铬砖的基础上发展起来的，其生产特点主要有两点，优质电熔半再结合镁铬砖一是采用较纯的原料，二是采用较高的烧成温度。所谓的直接结合是指砖中铬矿颗粒与方镁石之间有较多的直接接触，因为原料中SiO2较少(控制在1%?25%以下)，硅酸盐生成量少，通过高温烧成手段使硅酸盐挤压到固相颗粒的角落里。电熔半再结合镁铬砖销售从而提高固相的直接结合。镁碳砖用途直接结合镁铬砖由于直接结合程度高，从而使砖具有较高的高温强度、抗渣性、抗侵蚀、耐冲刷、耐腐蚀及优良的热震稳定性和在1800℃

这是传统产品，以铬矿做粗颗粒，镁砂做细粉。或者是两种材料采用级配颗粒组成，电熔半再结合镁铬砖烧成温度一般为1550?1600℃。这种砖的显微结构表现为铬矿颗粒和方镁石之间很少直接结合，优质电熔半再结合镁铬砖多为硅酸盐(CMS)胶结或裂隙隔离;方镁石中脱溶相少，基质中很少直接结合，这种砖的力学性能差，抗渣蚀性能差。

直接结合镁铬砖采用杂质含量较低的铬矿和优质高纯镁砂为原料，经过高压成型，1700℃以上的高温烧成。高温性能好，抗渣侵蚀能力强。耐水泥熟料侵蚀。电熔半再结合镁铬砖销售广泛应用于有色冶金炉和水泥回转窑等。3.半再结合镁铬砖和再结合镁铬砖再结合镁铬砖和再结合镁铬砖，采用部分或全部电熔砂(电熔合成砂)为原料，精细配料、高压成型、超高温煅烧，颗粒结合程度好，海城电熔半再结合镁铬砖产品强度高，体积稳定性好，广泛应用于RH、VOD、AOD等炉外精炼装置，有色冶金炉等。

镁铬砖是含MgO55%?80%、钢包用镁碳砖Cr2O38%?20%的碱性耐火材料制品转炉用镁碳砖，优质电熔半再结合镁铬砖转炉用镁碳砖以方镁石、复合尖晶石及少量硅酸盐相所构成。复合尖晶石包括MgAl2O4、MgFe2O4、MgCr2O4和FeAl2O4等尖晶石固溶体。镁铬砖在20世纪60年代以后由于原料纯度和烧成温度的提高而得到迅速发展，电熔半再结合镁铬砖销售目前镁铬砖按生产方法的不同可分为普通砖、直接结合砖、共同烧结砖、再结合砖和熔铸砖等。

这种制品生产工艺的特点是将按一定配比的镁砂和铬矿细粉的混合料高温炉烧，电熔半再结合镁铬砖销售实现生成二次尖晶石和镁砂-铬矿直接结合为目的的固相反应，制取共同烧结料，用此料制造烧成制品或化学结合制品。共同烧结镁铬砖的直接结合和显微结构的均一性较直接结合砖更好，方镁石脱溶相和晶间二次尖晶石量更多，海城电熔半再结合镁铬砖共同烧结镁铬砖具有一系列较直接结合砖更好的性能，尤以高温强度、耐温度急变性和抗渣性著称。